Gjør som tusenvis av andre bokelskere
Abonner på vårt nyhetsbrev og få rabatter og inspirasjon til din neste leseopplevelse.
Ved å abonnere godtar du vår personvernerklæring.Du kan når som helst melde deg av våre nyhetsbrev.
Feature Profile Evolution in Plasma Processing Using On-wafer Monitoring System
- Bindende:
- Paperback
- Sider:
- 40
- Utgitt:
- 17 februar 2014
- Utgave:
- 2014
- Dimensjoner:
- 155x235x0 mm.
- Vekt:
- 949 g.
Gratis frakt
Leveringstid:
2-4 uker
Forventet levering: 15 oktober 2024
Beskrivelse av Feature Profile Evolution in Plasma Processing Using On-wafer Monitoring System
Three types of sensors are introduced: on-wafer UV sensors, on-wafer charge-up sensors and on-wafer sheath-shape sensors in the plasma processing and prediction system of real etching profiles based on monitoring data.
Brukervurderinger av Feature Profile Evolution in Plasma Processing Using On-wafer Monitoring System
Vurder denne boken
Du må være innlogget for å vurdere denne boken.Andre har også kjøpt..
Finn lignende bøker
Boken Feature Profile Evolution in Plasma Processing Using On-wafer Monitoring System finnes i følgende kategorier:
Du kan når som helst melde deg av våre nyhetsbrev.
© 2024 Bokreolen.no
