Gjør som tusenvis av andre bokelskere
Abonner på vårt nyhetsbrev og få rabatter og inspirasjon til din neste leseopplevelse.
Ved å abonnere godtar du vår personvernerklæring.Du kan når som helst melde deg av våre nyhetsbrev.
Mikrowellenplasmaunterstutzte Prozesse fur Anwendungen in der Halbleitertechnologie.
- Bindende:
- Paperback
- Sider:
- 230
- Utgitt:
- 18. mars 2019
- Dimensjoner:
- 210x148x12 mm.
- Vekt:
- 281 g.
-
BLACK NOVEMBER
Gratis frakt
Leveringstid:
2-4 uker
Forventet levering: 8. desember 2024
Beskrivelse av Mikrowellenplasmaunterstutzte Prozesse fur Anwendungen in der Halbleitertechnologie.
In dieser Arbeit werden verschiedene Mikrowellenplasmaunterstützte Prozesse untersucht. Es werden Ätz- und Abscheideprozesse erforscht, die in der Halbleitertechnologie nötig sind. Dabei wird darauf geachtet, dass die Prozesstemperatur sehr gering ist. Durch die in der Arbeit untersuchten plasmaunterstützten Prozesse, kann eine epitaktische Siliziumschicht bereits bei 450 °C abgeschieden werden.
Brukervurderinger av Mikrowellenplasmaunterstutzte Prozesse fur Anwendungen in der Halbleitertechnologie.
Vurder denne boken
Du må være innlogget for å vurdere denne boken.Andre har også kjøpt..
Finn lignende bøker
Boken Mikrowellenplasmaunterstutzte Prozesse fur Anwendungen in der Halbleitertechnologie. finnes i følgende kategorier:
Du kan når som helst melde deg av våre nyhetsbrev.
© 2024 Bokreolen.no
